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      95氧化鋯研磨珠發(fā)展方向

      來(lái)源:|作者:金瑞 |發(fā)布時(shí)間:2022-12-13 |次瀏覽
      1.粒徑愈用愈小。研磨設備從使用粒徑較大研磨球的攪拌式球磨機誕生,發(fā)展到使用粒徑較小的研磨珠的立式砂磨機、臥式砂磨機以及各種帶改良功能的超細研磨新一代砂磨機,使用的氧化鋯珠?研磨介質(zhì)的粒徑愈來(lái)愈小。其主要有兩個(gè)推動(dòng)原因:

      1.粒徑愈用愈小。研磨設備從使用粒徑較大研磨球的攪拌式球磨機誕生,發(fā)展到使用粒徑較小的研磨珠的立式砂磨機、臥式砂磨機以及各種帶改良功能的超細研磨新一代砂磨機,使用的氧化鋯珠研磨介質(zhì)的粒徑愈來(lái)愈小。其主要有兩個(gè)推動(dòng)原因:

      A. 物料研磨最終細度微米化:由于研磨機內的物料是通過(guò)運動(dòng)中的研磨介質(zhì)的接觸作分散和研磨,研磨介質(zhì)粒徑越小而接觸點(diǎn)越多,最后達到較高的研磨效果及較小的研磨細度。例如粒徑為2mm硅酸鋯珠,每升約為20,000顆,而粒徑為1mm的顆粒達到約80,000,后者是前者的4倍。當使用較大粒徑鋯珠對某一產(chǎn)品進(jìn)行研磨時(shí),無(wú)論經(jīng)過(guò)多少道的砂磨,物料的粒徑始終未能達到要求的細度 ;而當改用粒徑較小的研磨珠時(shí),效果即得到明顯的提高。


      B. 砂磨機分離裝置的改進(jìn)使用超細研磨珠成為可能 :允許使用的的氧化鋯研磨珠粒徑已成為評衡砂磨機質(zhì)量檔次的一重要指標。分離裝置設計和制作材料的每一次更新,都帶來(lái)了使用研磨珠顆粒變小的一次飛躍。分離裝置從靜止傳統的扁平Nickel網(wǎng)到帶三角橫梁的Johnson網(wǎng)以及到動(dòng)態(tài)的環(huán)式分離器和套筒式Cartridge網(wǎng),除使用壽命延長(cháng)之外,能使用研磨介質(zhì)的粒徑越來(lái)越小,而同時(shí)又不明顯影響物料的流量。套筒式Cartridge網(wǎng)的代表(如美國Premier的速寶磨)所用的研磨鋯珠子達到0.2mm; 環(huán)式分離器的代表(如瑞士的Dyno-mill實(shí)驗室型)可用珠子粒徑也可達到0.2mm。而瑞士Buhler公司開(kāi)始研制的離心式分離裝置,使分離原理從區分珠子粒徑大小轉為區分珠子密度大小,而使研磨珠的粒徑推向新的領(lǐng)域。

      2.比重愈用愈大。通用的研磨珠如玻璃珠、石珠、硅酸鋯珠、純鋯珠和鉻鋼珠的比重依次遞增,而它們的硬度、抗壓強度和耐磨性除鉻鋼珠外也依次大。從動(dòng)力學(xué)公式P=mv可知,珠子的沖量P與珠子的質(zhì)量m成正比,密度越大的珠子運動(dòng)動(dòng)能就越大,研磨效率也相對越高。


      由于韌性較高的無(wú)機顏料(如碳黑、酞青藍、氧化鐵等)需要超細研磨,加之要追求更高的研磨效率和理想的光澤度,使用高密度的研磨珠業(yè)已成為一條解決途徑。而砂磨機生產(chǎn)商又配合了這一要求,主要有以下兩點(diǎn)原因使之成為可能:

      A. 高輸入動(dòng)能密度砂磨機的產(chǎn)生:現代砂磨機的發(fā)展趨勢之一是研磨缸的體積變小,而配置的馬達功率變大,所輸入動(dòng)能密度就急劇大。

      B. 砂磨機接觸件材質(zhì)質(zhì)量的提高 :砂磨機的接觸件(如內缸、分散碟、棒銷(xiāo)和分離裝置等)采用了堅硬耐磨的硬質(zhì)合金(如碳化鎢)及陶瓷(如碳化硅、氧化鋯等)等高性能的材料,可抵擋因如純鋯珠本身高動(dòng)能和高硬度的沖擊和摩擦所帶來(lái)的磨損。


      3.鋯珠的粒徑偏差愈來(lái)愈小。一方面是對物料細度的狹窄分布有一定貢獻,另一面是大大減小碎珠的產(chǎn)生而減少砂磨機接觸件的磨損和避免對產(chǎn)品的污染。如今市場(chǎng)上通用的金瑞研磨介質(zhì)粒徑偏差保持在0.2mm。均勻的珠子因制作工藝較復雜,所以市場(chǎng)價(jià)格也相對較高


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